L'azienda cinese Prinano consegna il primo strumento di litografia nanoimprint nazionale

Il produttore cinese di apparecchiature Prinano ha consegnato a https://www.icsmart.cn/94937/ il suo primo sistema di litografia nanoimprint PL-SR step-and-repeat sviluppato in proprio a un cliente nazionale focalizzato sui processi speciali. Il sistema è posizionato per la produzione effettiva di chip dopo il collaudo da parte del cliente e Prinano è solo la seconda azienda, dopo Canon, a piazzare uno strumento di nanoimprint presso un cliente.

Secondo i materiali forniti, la PL-SR supporta linee di larghezza inferiore a dieci nanometri. L'FPA-1200NZ2C di Canon raggiunge una larghezza di linea di circa quattordici nanometri. Viene promossa come abilitante per chip di classe cinque nanometri, ma i documenti avvertono che il risultato di Prinano non significa che la PL-SR possa produrre logica avanzata in un nodo di cinque nanometri.

Il fascino della nanoimpronta in questo caso è semplice: evita le sorgenti di luce ultravioletta estrema utilizzate nella litografia EUV commerciale, riducendo il consumo di energia e il costo delle apparecchiature. Il compromesso è la produttività e la flessibilità. La nanoimprint rimane più lenta della litografia ottica convenzionale e non è adatta ai processi logici complessi con modelli intricati e avanzati.

La macchina Prinano modella i wafer premendo uno stampo di quarzo rigido, inciso con circuiti in scala nanometrica, in un sottile strato di resistenza depositato a getto d'inchiostro. Il modulo a getto d'inchiostro del sistema misura dinamicamente il volume delle gocce per mantenere lo strato residuo sottile (sotto i dieci nanometri con una variazione inferiore a due nanometri), quindi polimerizza il modello per la successiva incisione. Lo strumento gestisce wafer da 300 mm, allinea lo stampo e il wafer con tolleranze minime e imprime ogni campo in sequenza con cuciture per coprire l'intero wafer. Supporta anche giunzioni uniformi di modelli da 20 mm x 20 mm fino a 300 mm x 300 mm.

Un meccanismo proprietario di controllo del profilo del modello mira a compensare i disallineamenti di curvatura tra stampo e wafer, consentendo il trasferimento di caratteristiche con rapporti di aspetto superiori a sette a uno e limitando al contempo la distorsione, un problema pratico importante per la resa e la variabilità del dispositivo. Dopo l'imprinting, il resistore funge da maschera per l'incisione delle strutture finali.

La validazione iniziale si rivolge ad applicazioni con modelli regolari e ripetitivi: NAND Flash, microdisplay basati sul silicio, fotonica del silicio e packaging avanzato. Questi settori traggono vantaggio dal passo fine della tecnologia e dalla cucitura campo per campo, senza richiedere la diversità dei modelli tipica delle CPU e delle GPU. Il materiale inquadra anche la nanoimprint domestica come un modo per i produttori di memoria cinesi di ridurre la dipendenza dagli strumenti stranieri e di competere in modo più efficace contro i fornitori affermati.